Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
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In che modo i cilindri nulli CGH rivoluzionano i test ottici e la misurazione di precisione?22 2025-10

In che modo i cilindri nulli CGH rivoluzionano i test ottici e la misurazione di precisione?

Nel campo in rapida evoluzione della metrologia ottica, i cilindri nulli CGH sono emersi come strumenti indispensabili per test di precisione e calibrazione di superfici cilindriche e asferiche. Sostituendo complesse configurazioni meccaniche con l'olografia generata dal computer (CGH), questi correttori nulli consentono una verifica superficiale ultra precisa in sistemi ottici di fascia alta come telescopi, obiettivi fotografici e strumenti di ispezione di semiconduttori. Questo articolo esplora come, perché e cosa rende i Cilindri CGH vitali per le industrie che cercano soluzioni di test con precisione inferiore al micron e convenienti, evidenziando al tempo stesso l'eccellenza professionale di Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd., un produttore leader in questo campo.
Quali sono i principi di funzionamento dei correttori Null CGH?05 2025-09

Quali sono i principi di funzionamento dei correttori Null CGH?

I correttori nulli CGH (correttori nulli ologramma generati dal computer) sono dispositivi di test ottici avanzati utilizzati per misurare e correggere le aberrazioni nei sistemi ottici di precisione, come lenti o specchi asferici e a forma libera.
Conosci Film Photomask?19 2025-05

Conosci Film Photomask?

Film Photomask è una piastra principale utilizzata per la produzione di wafer di circuiti integrati, che trasporta informazioni rilevanti sul layout di progettazione del circuito integrato. Nel processo di produzione dei wafer, il motivo sulla pellicola fotografica viene trasferito al materiale del substrato esposto attraverso una serie di processi come rivestimento fotoresist, esposizione e sviluppo per ottenere il trasferimento del motivo.
Introduzione dettagliata della piastra della maschera29 2025-04

Introduzione dettagliata della piastra della maschera

Una fotomaschera, nota anche come maschera di luce, fotomaschera o maschera per fotolitografia, è un modello principale utilizzato nel processo di fotolitografia nella produzione microelettronica. Quella che segue è un'introduzione dettagliata ad esso:
Le misure adottate dall'industria ottica in risposta all'adeguamento tariffario da parte degli Stati Uniti28 2025-04

Le misure adottate dall'industria ottica in risposta all'adeguamento tariffario da parte degli Stati Uniti

Nel rispondere all’aggiustamento tariffario da parte degli Stati Uniti, l’industria ottica deve adottare misure strategiche multidimensionali per bilanciare la pressione sui costi, mantenere la quota di mercato e promuovere l’ammodernamento industriale. Quella che segue è l’analisi strategica specifica:
L'impatto dell'aggiustamento tariffario degli Stati Uniti sull'industria ottica27 2025-04

L'impatto dell'aggiustamento tariffario degli Stati Uniti sull'industria ottica

L'impatto dell'aggiustamento tariffario degli Stati Uniti sull'industria ottica presenta caratteristiche multidimensionali e di livello profondo, che coinvolgono aree chiave come i costi della catena industriale, i modelli di mercato, l'innovazione tecnologica e la cooperazione internazionale. Quella che segue è l'analisi specifica:
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